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  1. 学術雑誌論文等

Shot noise modeling in metal-oxide-semiconductor field effect transistors under sub-threshold Condition

https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2007045
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2007045
2c5d23d1-adf0-41e4-a3c3-9f2813a0435b
名前 / ファイル ライセンス アクション
IEICETransElectron_E90C-4_885.pdf IEICETransElectron_E90C-4_885.pdf (542.1 KB)
Item type デフォルトアイテムタイプ_(フル)(1)
公開日 2023-03-18
タイトル
タイトル Shot noise modeling in metal-oxide-semiconductor field effect transistors under sub-threshold Condition
言語 en
作成者 Isobe, Yoshioki

× Isobe, Yoshioki

en Isobe, Yoshioki

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Hara, Kiyohito

× Hara, Kiyohito

en Hara, Kiyohito

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Navarro, Dondee

× Navarro, Dondee

en Navarro, Dondee

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Takeda, Youichi

× Takeda, Youichi

en Takeda, Youichi

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Ezaki, Tatsuya

× Ezaki, Tatsuya

en Ezaki, Tatsuya

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Miura-Mattausch, Mitiko

× Miura-Mattausch, Mitiko

en Miura-Mattausch, Mitiko

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アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
権利情報
権利情報 Copyright (c) 2007 The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers
主題
主題Scheme Other
主題 mosfet
主題
主題Scheme Other
主題 shot noise
主題
主題Scheme Other
主題 high frequency noise
主題
主題Scheme Other
主題 simulation
主題
主題Scheme Other
主題 sub-threshold current
主題
主題Scheme NDC
主題 540
内容記述
内容記述 We have developed a new simulation methodology for predicting shot noise intensity in Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor (MOSFET). In our approach, shot noise in MOSFETs is calculated by employing the two dimensional device simulator MEDICI in conjunction with the shot noise model of p-n junction. The accuracy of the noise model has been demonstrated by comparing simulation results with measured noise data of p-n diodes. The intensity of shot noise in various n-MOSFET devices under various bias conditions was estimated beyond GHz operational frequency by using our simulation scheme. At DC or low-frequency region, sub-threshold current dominates the intensity of shot noise. Therefore, shot noise is independent on frequency in this region and its intensity is exponentially depends on VG, proportional to L-1, and almost independent on VD. At high-frequency region above GHz frequency, on the other hand, shot noise intensity is frequency dependent and is quite larger than that of low-frequency region. In particular, the intensity of the RF shot noise is almost independent on L, VD and VG. This suggests that high-frequency shot noise intensity is decided only by the conditions of source-bulk junction.
言語 en
出版者
出版者 電子情報通信学会
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
出版タイプ
出版タイプ AO
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
関連情報
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1093/ietele/e90-c.4.885
関連情報
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://dx.doi.org/10.1093/ietele/e90-c.4.885
収録物識別子
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0916-8524
収録物識別子
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA10826283
開始ページ
開始ページ 885
書誌情報 IEICE TRANSACTIONS on Electronics
IEICE TRANSACTIONS on Electronics

巻 E90C, 号 4, p. 885-894, 発行日 2007
旧ID 20759
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Ver.1 2025-02-21 03:39:40.581899
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