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  1. 広島大学博士論文
  2. 2013年度

p-MOSFETにおけるNBTI(Negative Bias Temperature Instability)効果のモデル開発

https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2005009
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2005009
e627a532-4a8a-4dbd-b3f0-1097710d6ace
名前 / ファイル ライセンス アクション
k6227_3.pdf k6227_3.pdf (2.9 MB)
k6227_1.pdf k6227_1.pdf (119.9 KB)
k6227_2.pdf k6227_2.pdf (209.5 KB)
Item type デフォルトアイテムタイプ_(フル)(1)
公開日 2023-03-18
タイトル
タイトル Development and Verification of Compact Model for NBTI (Negative Bias Temperature Instability) Effect Observed in p-MOSFET
言語 en
タイトル
タイトル p-MOSFETにおけるNBTI(Negative Bias Temperature Instability)効果のモデル開発
言語 ja
作成者 馬, 晨月

× 馬, 晨月

ja 馬, 晨月

en Ma, Chenyue

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
権利情報
権利情報 Copyright(c) by Author
主題
主題Scheme NDC
主題 570
内容記述
内容記述 In the next 10 years, the dimension of semiconductor devices will scale towards 10nm. Consequently the reliability of ULSI circuits and systems faces enlarged challenges due to the introduction of the new materials and non-classical structures. Especially, the negative bias temperature instability (NBTI) effect is one of the most important reliability concerns since it deteriorates the drive-capability of the p-MOSFETs by degrading threshold voltage, drain current, transconductance, resulting in output delay. An accurate predictive NBTI effect model is required for protective circuit design and reduction of design tolerances to save the layout area. At present, numerous NBTI predictive model based on different physical theories have been developed, including hydrogen reaction-diffusion theory, hole-trapping theory, energy profile based theory and so on. However, an effective NBTI model must accurately predict the following features: 1) Long term degradation under DC stress conditions. 2) AC degradation with various frequencies and duty cycles. 3) The recovery characteristic in short term and long term regions. 4) Temperature dependence.……
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
資源タイプ doctoral thesis
出版タイプ
出版タイプ NA
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_be7fb7dd8ff6fe43
関連情報
関連タイプ references
関連名称 Compact Negative Bias Temperature Instability Model for Silicon Nanowire MOSFET (SNWT) and Application in Circuit Performance Simulation. Chenyue Ma, Bo Li, Lining Zhang, Feng Liu, Jin He, Xing Zhang, Xinnan Lin. Journal of Computational and Theoretical Nanoscience, vol. 7, pp. 107-114, (2010).
関連情報
関連タイプ references
関連名称 Unified Reaction-Diffusion Model for Accurate Prediction of Negative Bias Temperature Instability Effect. Chenyue Ma, Hans Jurgen Mattausch, Masataka Miyake, Kazuya Matsuzawa, Takahiro Iizuka, Seiichiro Yamaguchi, Teruhiko Hoshida, Akinari Kinoshita, Takahiko Arakawa, Jin He, and Mitiko Miura-Mattausch. Japanese Journal of Applied Physics, vol. 51, pp. 02BC07-1-02BC07-5 (2012).
関連情報
関連タイプ references
関連名称 Modeling of NBTI Stress Induced Hole-Trapping and Interface-State-Generation Mechanisms under a Wide Range of Bias Conditions. Chenyue Ma, Hans Jurgen Mattausch, Masataka Miyake, Takahiro Iizuka, Kazuya Matsuzawa, Seiichiro Yamaguchi, Teruhiko Hoshida, Akinori Kinoshita, Takahiko Arakawa, Jin He, and Mitiko Miura-Mattausch. IEICE, vol. E96-C, accepted (2013)
学位授与番号
学位授与番号 甲第6227号
学位名
言語 ja
学位名 博士(工学)
学位名
言語 en
学位名 Engineering
学位授与年月日
学位授与年月日 2013-09-25
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 15401
言語 ja
学位授与機関名 広島大学
学位授与機関
言語 en
学位授与機関名 Hiroshima University
旧ID 35128
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Ver.1 2025-02-18 09:58:45.477342
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