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アイテム
大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるアモルファスシリコン膜の結晶化及び薄膜トランジスタへの応用
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2004736
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/20047364e0bfaf1-211d-4d46-b22e-65a20afa06d2
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
k6500_4.pdf (196.6 KB)
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k6500_1.pdf (199.2 KB)
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k6500_2.pdf (216.2 KB)
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| Item type | デフォルトアイテムタイプ_（フル）(1) | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2023-03-18 | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors | |||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | 大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるアモルファスシリコン膜の結晶化及び薄膜トランジスタへの応用 | |||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 作成者 |
林, 将平
× 林, 将平
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| アクセス権 | ||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||
| 主題 | ||||||||||
| 主題Scheme | NDC | |||||||||
| 主題 | 540 | |||||||||
| 内容記述 | ||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||
| 内容記述 | 内容の要約 | |||||||||
| 言語 | ||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||||
| 学位授与番号 | ||||||||||
| 学位授与番号 | 甲第6500号 | |||||||||
| 学位名 | ||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||||||
| 学位名 | ||||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| 学位名 | Doctor of Engineering | |||||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||||
| 学位授与年月日 | 2014-09-25 | |||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||||
| 学位授与機関識別子 | 15401 | |||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 学位授与機関名 | 広島大学 | |||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| 学位授与機関名 | Hiroshima University | |||||||||
| 旧ID | 40355 | |||||||||
