WEKO3
アイテム / Crystallization of Amorphous Silicon Films by Atmospheric Pressure Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation and Its Application to Thin-Film Transistors / k6500_1
k6500_1
| ファイル | ライセンス |
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 k6500_1.pdf (204.0 kB)
sha256
cfcd9df0aa1b97301a34499b0f223773065fe55a249c664d26d3fbd26fc05d03
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| 公開日 | 2023-03-18 | |||||
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| ファイル名 | k6500_1.pdf | |||||
| 本文URL | https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/record/2004736/files/k6500_1.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | abstract | |||||
| サイズ | 199.2 KB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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