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アイテム
ULSI配線のためのゼオライト含有ポーラスシリカ低誘電率膜の前駆体合成と膜形成
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2003479
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2003479972fbc2c-c1fd-4902-bd6f-eb34948e11b9
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
k7665_1.pdf (227.5 KB)
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k7665_2.pdf (185.6 KB)
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| Item type | デフォルトアイテムタイプ_（フル）(1) | |||||||||
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| 公開日 | 2023-03-18 | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | Precursor Synthesis and Film Formation of Mesoporous Pure Silica Zeolite Low-k Films for ULSI Interconnects | |||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| タイトル | ||||||||||
| タイトル | ULSI配線のためのゼオライト含有ポーラスシリカ低誘電率膜の前駆体合成と膜形成 | |||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 作成者 |
佐藤, 旦
× 佐藤, 旦
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| アクセス権 | ||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||
| 内容記述 | ||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||
| 内容記述 | 内容の要旨, 審査の要旨 | |||||||||
| 言語 | ||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_db06 | |||||||||
| 資源タイプ | doctoral thesis | |||||||||
| 学位授与番号 | ||||||||||
| 学位授与番号 | 甲第7665号 | |||||||||
| 学位名 | ||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||||||
| 学位名 | ||||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| 学位名 | Doctor of Engineering | |||||||||
| 学位授与年月日 | ||||||||||
| 学位授与年月日 | 2018-09-07 | |||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||
| 学位授与機関識別子Scheme | kakenhi | |||||||||
| 学位授与機関識別子 | 15401 | |||||||||
| 言語 | ja | |||||||||
| 学位授与機関名 | 広島大学 | |||||||||
| 学位授与機関 | ||||||||||
| 言語 | en | |||||||||
| 学位授与機関名 | Hiroshima University | |||||||||
| 旧ID | 46938 | |||||||||
