WEKO3
アイテム / Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film / k8008_2
k8008_2
| ファイル | ライセンス |
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 k8008_2.pdf (231.3 kB)
sha256
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| 公開日 | 2023-03-18 | |||||
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| ファイル名 | k8008_2.pdf | |||||
| 本文URL | https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/record/2003159/files/k8008_2.pdf | |||||
| オブジェクトタイプ | abstract | |||||
| サイズ | 225.9 KB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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