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  1. 広島大学博士論文
  2. 2019年度

大気圧プラズマCVDによるUV遮蔽TiO2薄膜の開発

https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2003159
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2003159
67a8ae20-369f-47de-a99b-8054f651fdfb
名前 / ファイル ライセンス アクション
k8008_1.pdf k8008_1.pdf (63.3 KB)
k8008_2.pdf k8008_2.pdf (225.9 KB)
k8008_4.pdf k8008_4.pdf (59.0 KB)
Item type デフォルトアイテムタイプ_(フル)(1)
公開日 2023-03-18
タイトル
タイトル Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for the Fabrication of Ti02 UV・Protective Thin-Film
言語 en
タイトル
タイトル 大気圧プラズマCVDによるUV遮蔽TiO2薄膜の開発
言語 ja
作成者 Xu, Jing

× Xu, Jing

en Xu, Jing

Search repository
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 内容の要約
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
資源タイプ doctoral thesis
学位授与番号
学位授与番号 甲第8008号
学位名
言語 ja
学位名 博士(工学)
学位名
言語 en
学位名 Doctor of Engineering
学位授与年月日
学位授与年月日 2019-09-20
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 15401
言語 ja
学位授与機関名 広島大学
学位授与機関
言語 en
学位授与機関名 Hiroshima University
旧ID 48413
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Ver.1 2025-02-18 09:05:32.992200
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