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アイテム
ギ酸添加浴を用いた高効率高速クロムめっき II. 光沢クロムめっき形成に及ぼす電極表面の3価クロムイオン濃度の影響 <研究論文>
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/2011737
https://hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/20117378ceb767e-3035-418f-ada6-444ea6b1fef8
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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SFJ_55_139.pdf (814.5 KB)
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| Item type | デフォルトアイテムタイプ_（フル）(1) | |||||||||||||||||
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| 公開日 | 2023-03-18 | |||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||
| タイトル | ギ酸添加浴を用いた高効率高速クロムめっき II. 光沢クロムめっき形成に及ぼす電極表面の3価クロムイオン濃度の影響 <研究論文> | |||||||||||||||||
| 言語 | ja | |||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||
| タイトル | High-Efficient and High-Speed Chromium Deposition in a Formic Acid Bath II. Influence of Chromium Ion Concentration in the Vicinity of the Cathode on the Appearance of Chromium Deposits | |||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||
| 作成者 |
矢吹, 彰広
× 矢吹, 彰広
× 安部, 了介
× 松村, 昌信
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| アクセス権 | ||||||||||||||||||
| アクセス権 | open access | |||||||||||||||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 | |||||||||||||||||
| 権利情報 | ||||||||||||||||||
| 権利情報 | 本文データは学協会の許諾に基づきJ-STAGEから複製したものである | |||||||||||||||||
| 権利情報 | ||||||||||||||||||
| 権利情報 | Copyright (c) 2005 (社)表面技術協会 | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | High Current Efficiency | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | High Speed Deposition | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | Chromium Ion Concentration | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | Current Density | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||||||||
| 主題 | Rotating Disk Electrode | |||||||||||||||||
| 主題 | ||||||||||||||||||
| 主題Scheme | NDC | |||||||||||||||||
| 主題 | 560 | |||||||||||||||||
| 内容記述 | ||||||||||||||||||
| 内容記述 | A defect associated with the use of the Sargent bath, a widely-used device for chromium plating, is the substantially lower current efficiency of chromium, compared to that of other metals. It has been reported that the use of a formic acid bath leads to the production of amorphous-structured chromium deposits with a higher current efficiency. However, it is difficult to use this process commercially, because of difficulties involved in maintaining the bath. In this paper, the concentration of Cr3+ ion in the vicinity of the cathode in a formic acid bath was estimated from the current density, the aging time of the bath and the rotating speed of the rotating disk electrode (RDE) apparatus. The results show that Cr3+ concentration plays the most important role in determining the appearance of the deposited metal. The effect of formic acid and sulfuric acid on the chromium deposit was investigated, and the optimum Cr3+ concentration in the vicinity of the cathode on the chromium deposition process was determined. Taking these results into account, the conditions required for obtaining a bright deposit with a high current efficiency at a high deposition rate could be predicted, resulting in a bright deposit with a current efficiency of 64.8-0x1.fe3a0000008p+0t a deposition rate of 17.1μm/min. | |||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||
| 出版者 | ||||||||||||||||||
| 出版者 | 表面技術協会 | |||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||||||||||||||
| 出版タイプ | ||||||||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||||||||
| 関連情報 | ||||||||||||||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||||||||||||||
| 関連識別子 | 10.4139/sfj.55.139 | |||||||||||||||||
| 関連情報 | ||||||||||||||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||||||||||||||
| 関連識別子 | http://dx.doi.org/10.4139/sfj.55.139 | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | ||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | 0915-1869 | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | ||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||||||||
| 収録物識別子 | AN1005202X | |||||||||||||||||
| 開始ページ | ||||||||||||||||||
| 開始ページ | 139 | |||||||||||||||||
| 書誌情報 |
表面技術 表面技術 巻 55, 号 2, p. 139-144, 発行日 2004-02-01 |
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| 旧ID | 30481 | |||||||||||||||||
