| Item type |
デフォルトアイテムタイプ_（フル）(1) |
| 公開日 |
2023-03-18 |
| タイトル |
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タイトル |
New theory of effective work functions at metal/high-k dielectric interfaces : application to metal/high-k HfO2 and la2O 3 dielectric interfaces |
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言語 |
en |
| 作成者 |
Shiraishi, Kenji
Nakayama, Takashi
Akasaka, Yasushi
Miyazaki, Seiichi
Nakaoka, Takashi
Ohmori, Kenji
Ahmet, Parhat
Torii, Kazuyoshi
Watanabe, Heiji
Chikyow, Toyohiro
Nara, Yasuo
Iwai, Hiroshi
Yamada, Keisaku
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| アクセス権 |
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アクセス権 |
open access |
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アクセス権URI |
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2 |
| 権利情報 |
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権利情報 |
Copyright (c) 2006 The Electrochemical Society |
| 内容記述 |
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内容記述 |
We have constructed a universal theory of the work functions at metal/high-k HfO2 and La2O3 dielectric interfaces by introducing a new concept of generalized charge neutrality levels. Our theory systematically reproduces the experimentally observed work functions of various gate metals on Hf-based high-k dielectrics, including the hitherto unpredictable behaviors of the work functions of p-metals. Our new concept provides effective guiding principles to achieving near-bandedge work functions of gate metals. Moreover, we discuss the potential of the new high-k dielectrics of La2O3 based on this new concept. |
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言語 |
en |
| 出版者 |
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出版者 |
The Electrochemical Society |
| 言語 |
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言語 |
eng |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_5794 |
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資源タイプ |
conference paper |
| 出版タイプ |
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出版タイプ |
AO |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce |
| 関連情報 |
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識別子タイプ |
DOI |
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関連識別子 |
10.1149/1.2193871 |
| 関連情報 |
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識別子タイプ |
DOI |
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関連識別子 |
http://dx.doi.org/10.1149/1.2193871 |
| 収録物識別子 |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
BA78566750 |
| 開始ページ |
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開始ページ |
25 |
| 書誌情報 |
ECS Transactions
ECS Transactions
巻 2,
号 1,
p. 25-40,
発行日 2006
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| 旧ID |
17062 |
ECST_2_40.pdf (656.6 KB)
